掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業批量生產，是下游行業生產流程銜接的關鍵部分，是下游產品精度和質量的決定因素之一。

掩膜版的功能類似于傳統照相機的“底片”，其工作原理如下：根據客戶所需要的圖形，掩膜版廠商通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上，掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板，再將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產成品。掩膜版對下游行業生產線的作用主要體現為利用掩膜版上已設計好的圖案，通過透光與非透光的方式進行圖像（路圖形）復制，從而實現批量生產。

掩膜板產品特點：

1、低開模費,可以按設計人員的設計要求進行掩膜圖形任意更改，成本低

2、能實現金屬的半刻，增加公司LOGO，實現品牌化生

3、可達+/-0.0075mm的精度，滿足不同產品的組裝要求

4、復雜外形產品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本

5、沒有毛刺，壓點，產品不變形,不改變材料性質，不影響產品的功能

6、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求

7、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對各種圖案設計無限制

8、制造各類機械加工所無法完成的金屬部件

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